Wereldnieuws uit alle landen
Europees.euWereldnieuws uit alle landen
๐Ÿ‡ฐ๐Ÿ‡ช Kenia

Good Conduct Applicants Get Relief as DCI Launches Faster Biometric System

Good Conduct Applicants Get Relief as DCI Launches Faster Biometric System
Kort samengevat

The DCI will launch its upgraded MBIS-ABIS Version 5 biometric system on July 20, 2026, promising faster processing for Police Clearance Certificates.

Verder lezen bij de bron

Bekijk het volledige nieuwsbericht rechtstreeks bij Nairobi Wire.

Lees het volledige bericht โ†—